特許
J-GLOBAL ID：200903039464524109

有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子

発明者：
鈴木 正睦

鈴木 正睦 について

, 
佐々木 寛文

佐々木 寛文 について

, 
西村 功

西村 功 について

, 
丹羽 一明

丹羽 一明 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-379680
公開番号（公開出願番号）：特開2002-182380
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】 スルーホールあるいはコの字型の窪みを形成できるとともに、平坦化性能に優れ、かつ高い透明性およびレジスト剥離液に対する高い耐性を持つ有機EL素子の絶縁膜を形成するための感放射線性樹脂組成物、それから形成された有機EL素子の絶縁膜、および該絶縁膜を有する有機EL表示素子を提供すること。【解決手段】 組成物は(a)エポキシ基を含有するアルカリ可溶性樹脂、および(b)1,2-キノンジアジド化合物、を含有する。絶縁膜は、上記組成物より形成される。有機EL表示素子は、前記絶縁膜を有する。
請求項（抜粋）：
(a)エポキシ基を含有するアルカリ可溶性樹脂、および(b)1,2-キノンジアジド化合物、を含有することを特徴とする有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/022 ,  C08K 5/28 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/038 503 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (7件)：
G03F 7/022 ,  C08K 5/28 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/038 503 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z
Fターム (34件)：
2H025AA06 ,  2H025AA07 ,  2H025AA08 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AA20 ,  2H025AB14 ,  2H025AD03 ,  2H025BA06 ,  2H025BE01 ,  2H025BJ00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB17 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025DA40 ,  2H025FA29 ,  3K007AB00 ,  3K007BB02 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  4J002BH021 ,  4J002CD171 ,  4J002CD191 ,  4J002EQ036 ,  4J002FD310 ,  4J002GQ01
引用特許：
審査官引用 (14件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM