特許
J-GLOBAL ID：200903019734522706
変位情報測定装置
出願人/特許権者：
キヤノン株式会社
キヤノン株式会社 について
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144609
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015435
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】 簡易構成でありまた被測定物が低速であっても測定可能であり、且つレーザー波長の変動にもその際の空間的または時間的入射角変動にも影響されない測定が可能な変位情報測定装置を提供する。【構成】 被測定領域上に干渉縞を形成する2光束の波長変動によって干渉縞の縞間隔が実質的に変化しないようにされた光学系中に配置された電気光学結晶の光学軸と電圧印加手段による電界方向と電気光学結晶に入射する光束の偏光方向とを全て平行にするか、前記電界方向に対し前記光学軸と前記偏光方向の一方を平行に、他方を垂直になるように配置した。
請求項（抜粋）：
2光束を用いて被測定領域上に干渉縞を形成すると共に、2光束の波長変動によって干渉縞の縞間隔が実質的に変化しないようにされた光学系と、該光学系中に配置された電気光学結晶と、該電気光学結晶に所定の周期電圧を印加する手段と、前記干渉縞を形成された被測定領域からの光を該光の周波数変移から被測定領域の変位情報を測定すべく受光する検出手段とを有し、前記電気光学結晶の光学軸と前記電圧印加手段による電界方向と前記電気光学結晶に入射する光束の偏光方向とを全て平行にするか、前記電界方向に対し前記光学軸と前記偏光方向の一方を平行に、他方を垂直になるように配置したことを特徴とする変位情報測定装置。
IPC (5件)：
引用特許：
Copyright (c) 2009 Japan Science and Technology Agency. All Rights Reserved