特許
J-GLOBAL ID：200903019814841829
アクティブマトリクス基板及びこれを備えた電気光学パネル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-133943
公開番号（公開出願番号）：特開平11-326948
出願日： 1998年05月15日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：
【要約】【課題】 液晶パネル等用のアクティブマトリクス基板において、保護パターンを用いて、製造中及び製造後における基板上の各種配線、素子等の静電破壊を防止する。【解決手段】 各画素には、正スタガ型の画素駆動用のTFTが設けられる。半導体膜からなる保護パターンは、画像表示領域内において走査線に沿って基板上に配列された複数の第1保護パターン部及び表示領域縁部に配列された第2保護パターン部少なくとも一方を含み、半導体膜に対しイオン注入された不純物の濃度により抵抗が規定されおり、走査線に溜まった静電気がデータ線よりも流れ込み易いように構成されている。
請求項（抜粋）：
マトリクス状に形成されてなる複数の画素電極と、該複数の画素電極に接続されてなる薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタに接続されてなるデータ線及び走査線とを有し、前記画素電極が形成されてなる画像表示領域内に前記複数の走査線に沿って配列された複数の第1保護パターン部及び前記画像表示領域の周囲に沿って配列された第2保護パターン部分の少なくともいずれか一方が形成されてなり、該保護パターンは前記半導体膜にイオン注入された静電破壊防止用の保護パターンであることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (3件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/133 550
, H01L 29/786
G02F 1/136 500
, G02F 1/133 550
, H01L 29/78 623 A
