特許
J-GLOBAL ID：200903019821016639

光導波路形成用組成物、光導波路の形成方法、および光導波路

発明者：
佐藤 穂積

佐藤 穂積 について

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岡庭 求樹

岡庭 求樹 について

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宇高 友広

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出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255286
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083342
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 導波路損失が少なく、しかも耐熱性に優れた光導波路が容易に形成できる光導波路形成用組成物等を提供する。【解決手段】 下部クラッド層と、コア部分と、上部クラッド層とが順次に形成された光導波路において、当該下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つが、下記(A)〜(C)成分からなる光導波路形成用組成物を用いて形成してある。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、およびアルコール系有機溶媒からなる群から選択される少なくとも一つの有機溶媒
請求項（抜粋）：
(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物およびその加水分解物あるいはいずれか一方の化合物と、(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤と、(C)エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、およびアルコール系有機溶媒からなる群から選択される少なくとも一つの有機溶媒とを含有することを特徴とする光導波路形成用組成物。
IPC (4件)：
G02B 6/12 ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/12 ,  G02B 6/13
FI (4件)：
G02B 6/12 N ,  C03B 8/02 A ,  C03B 19/12 A ,  G02B 6/12 M
Fターム (7件)：
2H047KA03 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA31 ,  4G014AH04
引用特許：
審査官引用 (5件)
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