特許
J-GLOBAL ID：200903019824464292

成膜装置及び成膜方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
瀬尾 哲史

瀬尾 哲史 について

, 
水上 真由美

水上 真由美 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-022741
公開番号（公開出願番号）：特開2002-302757
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：
【要約】【課題】 複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜室210内に複数の蒸発源(203a〜203c)を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。このような成膜室を有する成膜装置により、機能領域間の不純物汚染を防ぎ、さらに、界面におけるエネルギーギャップを緩和した有機化合物膜を形成することができるという成膜装置に関する。
請求項（抜粋）：
複数の成膜室を有する成膜装置であって、前記成膜室は、複数の蒸発源を有し、前記複数の蒸発源は、機能の異なる有機化合物をそれぞれ有し、前記複数の蒸発源から前記機能の異なる有機化合物を連続的に蒸着することを特徴とする成膜装置。
IPC (4件)：
C23C 14/12 ,  C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (4件)：
C23C 14/12 ,  C23C 14/24 C ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (9件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029HA02
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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