特許

J-GLOBAL ID：200903019875263569

オゾン、水素発生方法及び発生装置

発明者： 大見 忠弘 ,  澤本 勲 ,  笠間 泰彦 ,  三森 健一 ,  今岡 孝之 ,  山中 弘次 ,  白井 泰雪
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  株式会社コアテクノロジー ,  株式会社フロンテック ,  オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138679
公開番号（公開出願番号）：特開平11-335883
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】 従来の電解ガス発生装置では、オゾンガス中の水素ガス濃度が高く最近の半導体における高密度化に伴う洗浄の安定化に対し対応出来なかった。本発明は、常に安定に、高純度なオゾンガス、及び水素ガスを簡単に製造しうる方法、及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 オゾン及び水素ガス発生部1にて製造されたオゾンガス,水素ガスは、各々オゾンガス導管11、水素ガス導管17に導かれ途中に設けられた圧力調整機構10,16により圧力(2.0kg/cm2以内)が調整され、これにより高純度ガスとなって供給する事が可能となった。

請求項（抜粋）：

その両側にそれぞれ多孔質の陽極物質、及び、陰極物質を配置させ、その間に固体電解質を配置し、陽極側に純水を供給して電解する事により陽極側よりオゾンガスと酸素ガスを、又、陰極側より水素ガスを製造する電解ガス発生装置において、常に陽極側の圧力が陰極側の圧力より大きく且つ、その差が2.0kg/cm2以内になる様に、陽極側の圧力、及び/又は、陰極側の圧力を制御することを特徴とするオゾン、水素発生方法。

IPC (5件)：

C25B 1/30 ,  C01B 13/10 ,  C25B 1/10 ,  C25B 9/00 302 ,  C25B 11/03

FI (5件)：

C25B 1/30 ,  C01B 13/10 Z ,  C25B 1/10 ,  C25B 9/00 302 ,  C25B 11/03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 水電解方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-018752   出願人：ペルメレック電極株式会社
• オゾン水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-203635   出願人：三菱重工業株式会社
• 特開平4-088182
  

審査官引用 (3件)

• 水電解方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-018752   出願人：ペルメレック電極株式会社
• オゾン水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-203635   出願人：三菱重工業株式会社
• 特開平4-088182