基板処理装置および方法、半導体装置の製造装置および方法、記録媒体、並びにプログラム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲本義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-060273
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257932
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：

【要約】【課題】常に同一な精度のポーラスシリコンを作製する。【解決手段】陽極化成の処理を実行する陽極化成槽1と、その陽極化成に必要な薬液が蓄えられている薬液タンク3との間で、循環ポンプ2が作動されることにより、薬液が循環されている。濃度計4は、循環されている薬液の濃度を測定する。濃度監視装置5は、濃度計4により測定された濃度値が、所定の範囲内の濃度値ではない場合、薬液供給装置6に対して薬液を、所定の範囲内の濃度値になる量だけ薬液タンク3に供給するように指示を出す。

請求項（抜粋）：

薬液中で基板に陽極化成の処理を施す陽極化成槽と前記陽極化成槽に対して前記薬液を装填するための薬液タンクを備え、前記陽極化成装置と前記薬液タンクとを含めて前記薬液の循環流路を構成してなる基板処理装置であって、前記循環流路に前記薬液の濃度を測定する測定手段と、前記薬液タンクに前記薬液を供給する供給手段と、前記測定手段により測定された前記薬液の濃度が管理基準範囲を逸脱した場合、前記薬液の濃度が前記管理基準内になるように前記供給手段により供給される前記薬液の供給量を調節する調節手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

Fターム (11件)：

5F043AA02 , 5F043AA03 , 5F043AA05 , 5F043BB02 , 5F043BB06 , 5F043DD14 , 5F043EE21 , 5F043EE22 , 5F043EE23 , 5F043EE27 , 5F043FF10

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-338008 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
化学反応方法および化学反応装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-123783 出願人：大見忠弘, 株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
特開平3-039491

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