特許
J-GLOBAL ID:200903019962307017

活性金属の活性能抑制法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内田 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-069523
公開番号(公開出願番号):特開平8-269502
出願日: 1995年03月28日
公開日(公表日): 1996年10月15日
要約:
【要約】【目的】 活性金属の安全な取扱いを可能とする活性金属の活性能抑制法に関する。【構成】 水素吸蔵合金などの活性金属を、これと反応するガス成分を微量含む不活性ガスと接触させて活性金属表面に極めて薄い不活性膜を生成させることを特徴とする活性金属の活性能抑制法。【効果】 活性金属表面に極薄の不活性膜を生成させることにより、活性金属を失活させることなく安全に取扱うことが可能となった。
請求項(抜粋):
活性金属を、これと反応するガス成分を微量含む不活性ガスと接触させて活性金属表面に極めて薄い不活性膜を生成させることを特徴とする活性金属の活性能抑制法。
IPC (3件):
B22F 1/00 ,  C23C 8/10 ,  C23C 8/24
FI (3件):
B22F 1/00 H ,  C23C 8/10 ,  C23C 8/24
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る