ポジ型感光性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-271395
公開番号（公開出願番号）：特開2000-187324
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】熱膨張係数を小さくすると共に、硬化膜の基材への密着性を低下させることなく、基材の反り量も減少させた、高感度のポジ型感光性樹脂組生物を提供する。【解決手段】一般式(1)で表されるポリベンゾオキサゾール前駆体、および、キノンジアジド化合物とフェノール化合物との反応により得られる感光性ジアゾナフトキノン化合物を必須成分とする。【化1】式中、nは2〜100の整数で、Qは2種類のジフェノール基及び2種類の2価フェノール基の中から選ばれた1種、Rは7種類の芳香族炭化水素基の中から選ばれた1種もしくは2種である。

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるポリベンゾオキサゾール前駆体(A)、および、式(5)もしくは式(6)で表されるキノンジアジド化合物(B)とフェノール化合物との反応により得られる感光性ジアゾナフトキノン化合物(C)を必須成分とすることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】(式中、nは2〜100の整数で、Qは式(2)に示した2種類のジフェノール基及び式(3)に示した2種類の2価フェノール基の中から選ばれた1種、Rは式(4)に示した7種類の芳香族炭化水素基の中から選ばれた1種もしくは2種である。)【化2】【化3】【化4】【化5】【化6】

IPC (6件)：

G03F 7/037 , C08G 73/06 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022 601 , G03F 7/023 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/037 , C08G 73/06 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022 601 , G03F 7/023 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-046862
耐高熱性ポジ型レジスト及び耐高熱性レリーフ構造物の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-139694 出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
特開昭64-006947

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