特許
J-GLOBAL ID:200903020015712968

高密度光メモリディスク記録原盤およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三枝 英二 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-065730
公開番号(公開出願番号):特開平8-036787
出願日: 1995年03月24日
公開日(公表日): 1996年02月06日
要約:
【要約】【目的】材料としての組成が単純であり、且つ青色〜紫外域の短波長光源を使用しての高密度の記録を実現し得る光メモリディスク記録原盤用レジスト材料を提供することを主な目的とする。【構成】1.基板上に記録媒体として紫外光領域に吸収をもつ有機高分子材料薄膜を備えた高密度光メモリディスク記録原盤。2.基板上に紫外光領域に吸収をもつ有機高分子材料の薄膜を形成した後、所定の記録信号に対応する紫外光により薄膜を露光し、次いで低分子化した薄膜の露光部分を現像することを特徴とする高密度光メモリディスク記録原盤の製造方法。
請求項(抜粋):
基板上に記録媒体として紫外光領域に吸収をもつ有機高分子材料薄膜を備えた高密度光メモリディスク記録原盤。
引用特許:
審査官引用 (6件)
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