特許

J-GLOBAL ID：200903020051400271

洗浄用組成物

発明者： 石川 浩一 ,  岩田 在博
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-062133
公開番号（公開出願番号）：特開2004-285354
出願日： 2004年03月05日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】 吸水性が低く、さらに腐食を促進するハロゲンイオンやBF4-イオン、アルカリ金属イオン等を含まず、かつ帯電防止性に優れた洗浄剤を得る。 【解決手段】 テトラオクチルアンモニウム・2,2,2-トリフルオロ-N-(トリフルオロメタンスルフォニル)アセタミド等の、第四級アンモニウム、第四級ホスホニウム又は第三級スルホニウムからなる群から選ばれる有機オニウムカチオンと、下記一般式(I)又は(II)【化1】【化2】(式中、A1、A2、B1、B2、B3はいずれも、フルオロアシル基、フルオロアルコキシカルボニル基、フルオロアルキルスルフォニル基、フルオロアルコキシスルフォニル基又はニトリル基を示す。)で示されるイミドアニオン又はメチドアニオンとからなる有機オニウム塩を、好ましくは炭化水素系有機溶剤が90質量%以上の有機溶剤に配合した洗浄用組成物。 【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

第4級アンモニウムカチオン、第4級ホスホニウムカチオン及び第3級スルフォニウムカチオンからなる群から選ばれる有機オニウムカチオンと、下記一般式(I)又は(II)

IPC (6件)：

C11D7/60 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  G11B5/127

FI (6件)：

C11D7/60 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  G11B5/127 D

Fターム (10件)：

4H003AA02 ,  4H003AE01 ,  4H003AE04 ,  4H003AE09 ,  4H003AE10 ,  4H003DA15 ,  4H003EB02 ,  4H003ED03 ,  5D093FA15 ,  5D093HA20

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-292983   出願人：株式会社ジャパンエナジー, 株式会社イノアックコーポレーション, 日鉱石油化学株式会社
• 液晶用洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-120839   出願人：三洋化成工業株式会社
• 特開平2-206700
  
• 特開平2-182792
  

審査官引用 (3件)

• 液晶用洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-120839   出願人：三洋化成工業株式会社
• 特開平2-206700
  
• 特開平2-182792