走査型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川北喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-259365
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082625
出願日： 1995年09月12日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】レチクルステージが移動することにより発生するチャンバ内の気流の変動を防止することができる走査型露光装置を提供する。【解決手段】チャンバ1内の温度をほぼ一定に維持するために、チャンバ1内で温度制御された気体を流動させる空調手段2と、レチクルRを照明光で照射する照明光学系と、前記照明光に対してレチクルRを相対移動するレチクルステージRSTと、レチクルマスクステージRSTの位置を測定するための干渉計6とを備え、レチクルRとウエハWとを同期移動してレチクルRのパターンの像でウエハWを露光する走査型露光装置である。レチクルステージRST及び干渉計6のビーム光路に向かう前記気体を遮るための隔壁50,51,52,53と、隔壁で仕切られたレチクルステージRST及び前記干渉計のビーム光路を含む隔室36内に温度制御された気体を供給する気体供給手段60とを備える。干渉計6の光路上の気体の温度ゆらぎによるレチクルステージ誤差が低減される。

請求項（抜粋）：

チャンバ内の温度をほぼ一定に維持するために、該チャンバ内で温度制御された気体を流動させる空調手段と、マスクを照明光で照射する照明光学系と、前記照明光に対して前記マスクを相対移動するマスクステージと、該マスクステージの位置を測定するための干渉計とを備え、前記マスクと感光基板とを同期移動して前記マスク上のパターンの像で前記感光基板を露光する走査型露光装置において、前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路に向かう前記気体を遮るための隔壁と、前記隔壁で仕切られた前記マスクステージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間内に温度制御された気体を供給する気体供給手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 H , H01L 21/30 516 E

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開昭63-104420
特開昭61-136227
縮小投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-062059 出願人：株式会社日立製作所

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