特許
J-GLOBAL ID:200903020061502463

金属フェルール形成用微細円柱の製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 生田 哲郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-373665
公開番号(公開出願番号):特開2001-192882
出願日: 1999年12月28日
公開日(公表日): 2001年07月17日
要約:
【要約】【課題】外径が均一で、真円度、同軸度が高い、フェルールを形成するための微細円柱を製造する方法を提供する。【解決手段】芯線母型に電鋳を施すに際し、抵抗率が5×10-6Ωcm以下の芯線を使用することを特徴とするフェルール形成用微細円柱の製造方法である。また、芯線に、先ず抵抗率5×10-6Ωcm以下の第一金属の薄層をメッキし、次いで第二金属を所定径まで電鋳してもよい。
請求項(抜粋):
芯線母型に電鋳を施すに際し、抵抗率が5×10-6Ωcm以下の芯線を使用することを特徴とするフェルール形成用微細円柱の製造方法。
IPC (2件):
C25D 1/02 311 ,  G02B 6/36
FI (2件):
C25D 1/02 311 ,  G02B 6/36
Fターム (2件):
2H036QA19 ,  2H036QA20
引用特許:
審査官引用 (3件)

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