特許

J-GLOBAL ID：200903020070944169

プロセスデータ収集装置およびモデル作成装置ならびにモデル作成システム

発明者： 小川 実 ,  中村 寿一 ,  合川 禎一 ,  大林 茂
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-074117
公開番号（公開出願番号）：特開2006-261253
出願日： 2005年03月15日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】品質との関連についての予測によって絞り込まれていない多種類の情報に基づいて、対象品の品質の推測に用いることのできるモデル作成システムを提供する。【解決手段】プロセスの状態に関連する情報であるプロセス状態情報から抽出されるプロセス特徴量と、そのプロセスで処理された対象品についての検査結果情報とに基づいて、プロセス状態情報と検査結果情報との関係を表すプロセス-品質モデルを作成するモデル作成装置10と、プロセス状態情報を所定の収集周期で時系列に収集するデータ収集部4aと、そのデータ収集部で収集したプロセス状態情報をプロセス単位で一時的にプロセス毎一次データ記憶部4fに格納する一時保存管理部4bと、その一時保存管理部に格納されたプロセス状態情報に基づく情報からプロセス特徴量を抽出する特徴量抽出部4dと、を複数組備える。各組のデータ収集部の収集周期a,b,cをそれぞれ異ならせた。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

プロセスが実行されている期間中に取得される、そのプロセスの状態に関連する情報であるプロセス状態情報から抽出されるプロセス特徴量と、そのプロセスで処理された対象品についての検査結果情報とに基づいて、プロセス状態情報と検査結果情報との関係を表すプロセス-品質モデルを作成するモデル作成装置に対し、前記プロセス特徴量を与えるプロセスデータ収集装置であって、 前記プロセス状態情報を所定の収集周期で時系列に収集する収集手段と、その収集手段で収集したプロセス状態情報をプロセス単位で一時的にプロセス毎一次データ記憶手段に格納する一時保存管理手段と、その一時保存管理手段に格納されたプロセス状態情報に基づく情報から前記モデル作成装置に与えるプロセス特徴量を抽出する特徴量抽出手段と、を複数組備え、 各組の前記収集手段の収集周期を異ならせたことを特徴とするプロセスデータ収集装置。

IPC (4件)：

H01L 21/02 ,  G05B 19/418 ,  G06Q 50/00 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

H01L21/02 Z ,  G05B19/418 Z ,  G06F17/60 108 ,  H01L21/66 Z

Fターム (5件)：

3C100AA29 ,  3C100BB27 ,  3C100CC02 ,  3C100EE06 ,  4M106DJ38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半導体プロセスの管理方法及びその管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-023686   出願人：松下電器産業株式会社
• 不良装置検出方法、不良装置検出装置、プログラム及び製品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-292864   出願人：株式会社東芝