非ミラー状シリコンウェハーおよびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：千田稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-282698
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124894
出願日： 1994年10月21日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】広い面積のウェハー全域に及ぶ均一性の高い、ムラのない超薄型ウェハー仕上げ、および光電変換効率の向上を図るため、表面反射の低減、単位受光面の拡大などの特殊表面仕上げ非ミラー状シリコンウェハーおよびその製造方法の提供。【構成】ウェハー全面に均一に平均高さ5μm以下の、非鋭尖形曲面状頂部の突起を有する非ミラー状シリコンウェハー、および、硫酸、硝酸および弗酸が、それぞれ95%硫酸、70%硝酸、49%弗酸として、硫酸、硝酸、および弗酸の容量比が硫酸33-90%、硝酸5-50%、弗酸4-40%である混合物をエッチャントとする異方性エッチング方法。

請求項（抜粋）：