特許
J-GLOBAL ID：200903020103804112
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-152678
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340548
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 ランニングコストが低いプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 内筒部6は、プラズマによってスパッタリングされた場合でも汚染が発生し難い誘電体材料である石英で形成した円筒状の内筒本体6aを備えており、該内筒本体6aの内周面に、プラズマによってスパッタリングされ難く、スパッタリングされた場合でも汚染が発生し難い材料であるアルミナを溶射した耐プラズマ層6cが形成してある。また、内筒本体6aの外周面に、アルミニウム等、マイクロ波を反射する材料を用いてなるマイクロ波反射層6bが形成してある。また、保護リング8は、内筒部6と同様に、石英で形成した保護リング本体8aの内周面に、アルミナを溶射した耐プラズマ層8cが形成してあり、保護リング本体8aの外周面にマイクロ波反射層8bが形成してある。
請求項（抜粋）：
マイクロ波窓で開口を封止してなる有底筒状の容器内へ、前記マイクロ波窓を透過させてマイクロ波を導入することによって容器内にプラズマを生成し、生成したプラズマによって前記容器内に配した被処理物を処理する装置において、誘電体で形成した筒体が、該筒体の開口を前記マイクロ波窓に対向させて、前記容器内のプラズマを生成させる領域を取り囲むように配置してあり、筒体の外周面に、マイクロ波を反射するマイクロ波反射層が設けてあることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, C23F 4/00 D
, H05H 1/46 B
4K057DA20
, 4K057DD01
, 4K057DK03
, 4K057DM14
, 4K057DM17
, 4K057DM18
, 4K057DM29
, 4K057DM39
, 4K057DM40
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB14
, 5F004BB29
, 5F004BD01
, 5F004CA06
, 5F004CB12
