特許
J-GLOBAL ID:200903020132150644
ビスマス系酸化物超電導素線、ビスマス系酸化物超電導導体、超電導コイル、およびそれらの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-123301
公開番号(公開出願番号):特開2008-282566
出願日: 2007年05月08日
公開日(公表日): 2008年11月20日
要約:
【課題】交流損失を低減するとともに超電導体が劣化することを防止する、ビスマス系酸化物超電導素線、ビスマス系酸化物超電導導体、超電導コイル、およびそれらの製造方法を提供する。【解決手段】ビスマス系酸化物超電導素線100の製造方法は、以下の工程を実施する。まず、ビスマス系酸化物超電導体111を有するテープ状線材を準備する工程を実施する。次に、テープ状線材の長手方向に沿って切断することにより、テープ状線材よりも幅の狭い線材110cを形成する工程を実施する。次に、幅の狭い線材110cの切断面とを半田からなる被覆層120で覆う工程を実施する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ビスマス系酸化物超電導体を有するテープ状線材を準備する工程と、
前記テープ状線材の長手方向に沿って切断することにより、前記テープ状線材よりも幅の狭い線材を形成する工程と、
前記幅の狭い線材の切断面を半田からなる被覆層で覆う工程とを備えた、ビスマス系酸化物超電導素線の製造方法。
IPC (6件):
H01B 13/00
, H01B 12/10
, H01B 12/04
, C01G 1/00
, C01G 29/00
, H01F 6/06
FI (7件):
H01B13/00 565D
, H01B12/10
, H01B12/04
, C01G1/00 S
, C01G29/00
, H01F5/08 B
, H01F5/08 N
Fターム (20件):
4G047JA05
, 4G047JC10
, 4G048AA03
, 4G048AA05
, 4G048AB06
, 4G048AC04
, 4G048AD01
, 4G048AE05
, 5G321AA05
, 5G321AA06
, 5G321BA02
, 5G321BA03
, 5G321BA14
, 5G321CA09
, 5G321CA16
, 5G321CA18
, 5G321CA30
, 5G321CA48
, 5G321CA52
, 5G321DB18
引用特許:
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