特許
J-GLOBAL ID:200903020188677122
人工炭酸泉の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後田 春紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-239855
公開番号(公開出願番号):特開2008-063236
出願日: 2006年09月05日
公開日(公表日): 2008年03月21日
要約:
【課題】炭酸泉や炭酸飲料用として、微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置を用いて、還元系を含めた人工炭酸泉の製造方法を提供する。【解決手段】微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上となる、水素混合二酸化炭素ガスや無隔膜電解装置との組み合わせにより還元系を含めた人工炭酸泉を製造する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上とするようにしたことを特徴とする人工炭酸泉の製造方法。
IPC (5件):
A61K 8/19
, A61H 33/02
, A61Q 19/10
, B01F 1/00
, C01B 31/20
FI (6件):
A61K8/19
, A61H33/02 A
, A61Q19/10
, B01F1/00 A
, B01F1/00 B
, C01B31/20 Z
Fターム (18件):
4C083AB131
, 4C083AB132
, 4C083AB501
, 4C083AB502
, 4C083CC25
, 4C083EE41
, 4C094DD06
, 4C094GG03
, 4G035AA01
, 4G035AA06
, 4G035AE01
, 4G035AE13
, 4G146JA02
, 4G146JB04
, 4G146JC31
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027DD00
引用特許:
前のページに戻る