特許
J-GLOBAL ID:200903020192203674
成膜装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 義雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-092147
公開番号(公開出願番号):特開2000-286327
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月13日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 被処理面を上側にして処理を行う装置と被処理面を下側にして成膜を行う成膜装置との間での円滑な基板の受け渡しを簡易にすること。【解決手段】 ハンド20によって成膜室41中に搬入された基板Wは、チャック駆動機構70に駆動されたチャック60によって把持され反転される。温調板駆動機構80は、温度調節部材65を下降させて基板Wの裏面に接触させる。基板Wは、温調された状態で下側の被処理面に成膜される。成膜が終了した基板Wは、温度調節部材65を上方に待避させ、チャック60を回転させることにより、反転する。これにより、基板Wの上面が成膜面となる。
請求項(抜粋):
デポアップ型の成膜装置において、膜形成面を上側にして搬送されてきた基板を成膜室に搬入するとともに、当該基板を前記成膜室中で反転させて前記膜形成面を下側にするハンドリング手段を備えることを特徴とする成膜装置。
IPC (5件):
H01L 21/68
, C23C 14/32
, C23C 14/50
, H01L 21/203
, H01L 21/205
FI (6件):
H01L 21/68 N
, H01L 21/68 A
, C23C 14/32 Z
, C23C 14/50 K
, H01L 21/203 S
, H01L 21/205
Fターム (40件):
4K029AA24
, 4K029CA03
, 4K029DA08
, 4K029DD00
, 4K029DD05
, 4K029EA06
, 4K029KA01
, 4K029KA02
, 5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031FA14
, 5F031FA21
, 5F031GA06
, 5F031GA47
, 5F031GA51
, 5F031MA28
, 5F031MA31
, 5F031NA08
, 5F045AA08
, 5F045BB02
, 5F045BB08
, 5F045DP23
, 5F045DQ08
, 5F045DQ15
, 5F045EB02
, 5F045EH04
, 5F045EH08
, 5F045EH16
, 5F045EK23
, 5F045EM10
, 5F045EN04
, 5F045HA25
, 5F103AA02
, 5F103BB09
, 5F103BB38
, 5F103BB41
, 5F103BB49
, 5F103RR05
引用特許:
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