特許
J-GLOBAL ID：200903020200148459
光磁気記録用合金ターゲット、その製造方法およびその再生方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070612
公開番号（公開出願番号）：特開平10-251847
出願日： 1997年03月07日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：
【要約】【課題】 希土類金属-遷移金属合金からなる光磁気記録用合金ターゲットの透磁率を低くする。また、このようなターゲットの酸素含有量を低減する。また、光磁気記録用合金ターゲットの再生を容易にする。【解決手段】 R(Tb、Dy、Gd、Sm、Nd、Ho、Tm、Erの1種以上)とT(Fe、Co、Ni等の遷移金属)とを含み、実質的に均質な焼結組織からなり、透磁率が3以下である光磁気記録用合金ターゲット。高周波炉またはるつぼ炉による溶解→急冷→粉砕→加圧焼成の工程により製造する。このターゲットを使用した後、機械粉砕して再生合金粉末を得、この再生合金粉末と、前記工程における加圧焼成前の合金粉末とを混合し、これを加圧焼成することにより再びターゲットとする。
請求項（抜粋）：
光磁気記録用の記録材料をマグネトロンスパッタ法により形成するときに用いられるターゲットであって、R(Rは、Tb、Dy、Gd、Sm、Nd、Ho、TmおよびErの少なくとも1種から選択される希土類金属元素である)を20〜30原子%含み、残部が実質的にT(Tは、遷移金属元素であり、Fe、CoおよびNiの少なくとも1種を必ず含む)であり、実質的に均質な焼結組織からなり、透磁率が3以下である光磁気記録用合金ターゲット。
IPC (4件)：
C23C 14/34
, C23C 14/14
, G11B 11/10 541
, G11B 11/10
C23C 14/34 A
, C23C 14/14 F
, G11B 11/10 541 H
, G11B 11/10 541 Z
