特許
J-GLOBAL ID：200903020202838959
インクジェット記録方法および画像処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068170
公開番号（公開出願番号）：特開2008-229864
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】搬送量ばらつきによって起こる低周波の濃度むらと、クラスタサイズを大きくすることによって招致される粒状性の双方を、状況に応じてバランスよく抑制することが可能なインクジェット記録方法を提供することである。【解決手段】モノクロモードのような低周波な濃度むらが懸念されやすい記録モードでは、比較的大きなクラスタから構成されるマスクパターンを使用し、それ以外の記録モードでは、比較的小さなクラスタから構成されるマスクパターンを使用する。これにより、搬送ローラの形状変異などによって起こる低周波の濃度むらと、クラスタサイズを大きくすることによって招致される粒状性の双方を、記録モードに応じて適切に抑制することが可能になる。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
記録データに基づいて記録媒体にドットを記録する記録素子の複数を副走査方向に配列させてなる記録ヘッドを前記副走査方向とは交差する主走査方向に移動させる主走査と、該主走査のたびに前記副走査方向に前記記録媒体を前記記録ヘッドに対して相対的に所定量ずつ搬送する搬送動作と、を間欠的に繰り返すことにより前記記録媒体に画像を記録するインクジェット記録方法であって、
前記搬送動作における誤差によって招致される濃度むらの抑制を重視する第1の記録モードと画像の粒状感を抑制することを重視する第2の記録モードを少なくとも含む複数の記録モードの中から、一つの記録モードを選択する工程と、
個々のエリアに対するドット記録の許容あるいは非許容が定められたマスクパターンの複数の中から、一つのマスクパターンを、選択された前記記録モードに応じて設定する工程と、
設定された前記マスクパターンを使用することにより、前記主走査のそれぞれで前記記録ヘッドが記録するデータを定める工程と、を有し、
前記マスクパターンは、前記副走査方向に連続するN個のエリア(N≧1)と前記主走査方向に連続するM個のエリア(M≧1)を1つのクラスタとし、該クラスタの単位でドット記録の許容あるいは非許容が定められており、前記第1の記録モードが選択された場合に設定される前記マスクパターンのNの値は、前記第2の記録モードが選択された場合に設定される前記マスクパターンのNの値よりも大きいことを特徴とするインクジェット記録方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
2C056EA06
, 2C056EC12
, 2C056EC34
, 2C056EC71
, 2C056EC74
, 2C056EC80
, 2C056FA10
