特許
J-GLOBAL ID：200903020222447301
ポジ型感光性組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-513941
公開番号（公開出願番号）：特表平10-507850
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：
【要約】骨格として構造(I)のジアゾエステルを含んでなる光増感剤。(式中、X=Cl、Br、I、OH、OR、COOR、COOAr(OH)n、COAr(OH)n、COR、R、Ar(OH)nであり、R=C1〜C8アルキルであり、n=0〜5であり、Ar=フェニルである)(ここで、フェニル環上の少なくとも1個の水酸基は、60〜100モル%の2,1,4または2,1,5ジアゾスルホニルクロライド、またはそれらの混合物を含んでなるジアゾスルホニルクロライドでエステル化されている)、および光増感剤、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂、および適当な溶剤の混合物を含んでなるフォトレジスト(ここで、光増感剤は、フォトレジスト組成物を均質に光増感するのに十分な量でフォトレジスト組成物中に存在し、ノボラック樹脂は、本質的に均質なフォトレジスト組成物を形成するのに十分な量でフォトレジスト組成物中に存在する)。
請求項（抜粋）：
下記の混合物を含んでなるポジ型フォトレジスト組成物。 (a)骨格として下記の構造を有するジアゾエステルを含んでなる光増感剤。(式中、X=Cl、Br、I、OH、OR、COOR、COOAr(OH)n、COAr(OH)n、COR、R、Ar(OH)nであり、R=C1〜C8アルキルであり、n=0〜5であり、Ar=フェニルである)(ここで、ジアゾエステルは、フェニル環上の少なくとも1個の水酸基が、60〜100モル%の2,1,4または2,1,5ジアゾスルホニルクロライド、またはそれらの混合物を含んでなるジアゾスルホニルクロライドでエステル化された化合物であり、フォトレジスト組成物を均質に光増感するのに十分な量でフォトレジスト組成物中に存在する)、および(b)本質的に均質なフォトレジスト組成物を形成させるのに十分な量でフォトレジスト組成物中に存在する、水に不溶で、水性アルカリに可溶なノボラック樹脂。
IPC (2件)：
G03F 7/022 601
, G03F 7/004 501
G03F 7/022 601
, G03F 7/004 501
