特許
J-GLOBAL ID：200903020271056709
成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 浩 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079912
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273616
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 大量生産に対応可能な成膜装置を簡素な構成かつ低コストで実現する。【解決手段】 チャンバ1内に、複数の搬送路2、2、・・・を設けると共に、これら各搬送路2、2、・・・の伸延方向に沿って、チャンバ1内を、積み降ろし部3、挿入取出室4、真空保持室5及び複数の成膜室6、6、・・・に、それぞれ仕切る。そして、各搬送路2、2、・・・により、成膜対象となる複数の被処理物7、7、・・・を、それぞれ並行して搬送する。このように、大量生産に対応すべく複数の成膜室6、6、・・・を設けながらも、他の挿入取出室4や真空保持室5等を一元化することにより、これらに付随する真空排気系45、54等の周辺機器をも一元化する。よって、その分、装置全体の構成を簡素化でき、かつ低コスト化できる。
請求項（抜粋）：
複数の被処理物に対して所定の前処理を一括して施す前処理室と、この前処理室で処理した後の各被処理物がそれぞれ個別に搬入されこれら各被処理物の表面に所定の膜をそれぞれ個別に形成する複数の成膜室と、を具備する成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 14/02
, C23C 16/02
, G02B 1/10
C23C 14/02 Z
, C23C 16/02
, G02B 1/10 Z
2K009BB01
, 2K009BB06
, 2K009BB14
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 2K009EE00
, 4K029DA02
, 4K029KA01
, 4K029KA09
, 4K030EA11
, 4K030GA12
, 4K030HA01
, 4K030KA11
, 4K030KA28
