特許
J-GLOBAL ID：200903020292525229
ガス発生器の製作方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-216920
公開番号（公開出願番号）：特開2003-025949
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】 高圧コンプレッサを用いることなく容易に高圧ガスが充填されたガス発生器を製作できる方法を提供することを目的とする。【解決手段】 ストアーガスインフレータ1は、高圧ガスが充填された耐圧容器2を備えている。この高圧ガスを充填するには、耐圧容器2内に所定量のガス発生剤32を収容する。この耐圧容器2の後部をヒータ34に挿入して加熱する。耐圧容器2が加熱され、内部のガス発生剤32が反応開始温度にまで加熱されると、ガス発生剤が穏やかに反応を開始し、耐圧容器2内が徐々に昇圧する。ガス発生剤32がすべて反応することにより、耐圧容器2内が所定の高圧に達する。
請求項（抜粋）：
ガス流出手段を有した耐圧容器と、該耐圧容器内に充填された高圧ガスとを備えたガス発生器を製作する方法において、該耐圧容器内にガス発生剤を挿入しておき、該ガス発生剤からガスを発生させることにより該耐圧容器内を高圧ガスで満たすことを特徴とするガス発生器の製作方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
3D054DD04
, 3D054DD17
, 3D054DD21
, 3D054DD30
, 4G068DA08
, 4G068DB30
, 4G068DC06
, 4G068DC10
