特許
J-GLOBAL ID：200903020376732947
反射法探査による亀裂帯評価方法
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
一色 健輔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-339598
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148355
出願日： 2000年11月07日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 平面的にも深度的にも広範囲で高精度の岩盤亀裂評価を簡便迅速かつ低コストにて可能とする亀裂帯評価方法を提供する。【解決手段】 亀裂帯評価の対象となる岩盤について反射法探査を実施して反射データを測定あるいは同岩盤について予め測定済みの反射データを入手する反射データ測定手順s111と、当該手順s111にて得られた反射データを処理解析し岩盤中における反射面の特定を行うデータ解析手順s113と、特定された反射面の存在位置を岩盤中に存在する亀裂帯Fとして解析・特定する亀裂帯特定手順s115とを実施する。
請求項（抜粋）：
未知岩盤における断層、断層破砕帯、節理といった不連続面の分布状況を反射法探査による探査結果を用いて予測する亀裂帯評価方法であって、亀裂帯評価の対象となる岩盤について反射法探査を実施して反射データを測定あるいは同岩盤について予め測定済みの反射データを入手する反射データ測定手順と、当該手順にて得られた反射データを処理解析し岩盤中における反射面の特定を行うデータ解析手順と、特定された反射面の存在位置を岩盤中に存在する亀裂帯として解析・特定する亀裂帯特定手順とからなることを特徴とする反射法による亀裂帯評価方法。
IPC (3件)：
G01V 9/00
, G01H 17/00
, G01N 29/10 506
G01V 9/00 J
, G01H 17/00 Z
, G01N 29/10 506
2G047AA10
, 2G047BA03
, 2G047CA03
, 2G047CB01
, 2G047EA08
, 2G047EA09
, 2G047EA16
, 2G047GF04
, 2G047GG36
, 2G064AA00
, 2G064AB09
, 2G064AB21
