特許
J-GLOBAL ID:200903020402423435
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-347647
公開番号(公開出願番号):特開平6-252071
出願日: 1993年12月24日
公開日(公表日): 1994年09月09日
要約:
【要約】【目的】 新規なプラズマ処理方法を提供する。【構成】 シートビーム型のプラズマを用いてプラズマ処理を行なう。このシートビーム状のプラズマは、一対の電極間において一方の電極にスリットを設け、このスリットから反応性気体を噴出させることによって実現させる。
請求項(抜粋):
真空容器内にシートビーム型のプラズマ領域発生手段を設け、該領域を被プラズマ処理基板が通過する過程でプラズマ処理を行うことを特徴とするプラズマ処理方法
IPC (4件):
H01L 21/205
, C23C 14/06
, C23C 16/50
, H01L 21/302
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平1-109699
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特開平3-215671
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特開平4-124276
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特開平3-275597
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特開平2-205681
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特開昭63-243275
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特開昭63-089665
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特開昭63-305516
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プラズマ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-175914
出願人:東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
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