特許
J-GLOBAL ID:200903020403174730

オゾン処理装置及びオゾン処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 平木 祐輔 ,  関谷 三男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-163951
公開番号(公開出願番号):特開2009-000625
出願日: 2007年06月21日
公開日(公表日): 2009年01月08日
要約:
【課題】 被処理材の表面をばらつきなく均質に処理することができると共に、処理コストを低減することができる提供する。【解決手段】 被処理材Wを収容する収容室20Aと、該収容室20A内に収容された前記被処理材の表面に、ミストまたは蒸気に溶存したオゾンを接触させるためのオゾン接触部30Aと、を少なくとも備え、前記被処理材Wにオゾン処理を行う装置10Aであって、該オゾン処理装置10Aは、前記収容室1内の圧力を一定圧力に加圧調整する加圧調整部40をさらに備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理材を収容する収容室と、該収容室内に収容された前記被処理材の表面に、ミストまたは蒸気に溶存したオゾンを接触させるためのオゾン接触部と、を少なくとも備え、前記被処理材にオゾン処理を行う装置であって、 該オゾン処理装置は、前記収容室内の圧力を一定圧力に加圧調整する加圧調整部をさらに備えることを特徴とするオゾン処理装置。
IPC (2件):
B05B 13/02 ,  B01F 1/00
FI (2件):
B05B13/02 ,  B01F1/00 A
Fターム (6件):
4F035CA02 ,  4F035CA05 ,  4F035CA08 ,  4F035CB13 ,  4F035CC01 ,  4G035AA01
引用特許:
出願人引用 (1件)

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