水素分離膜の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：五十嵐孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-242266
公開番号（公開出願番号）：特開2002-052326
出願日： 2000年08月10日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【課題】ピンホールを生じることなく薄膜化が可能な水素分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】多孔質基材の表層に水素分離金属の被膜を形成して水素分離膜を製造する。この際、多孔質基材の細孔中をパラフィンなどの充填材で充填した後、成膜を行う。充填材は、成膜後に加熱除去する。こうすることにより、多孔質基材の細孔中に水素分離金属が陥没、浸入することを抑制でき、ピンホールの発生を抑制しつつ、水素分離金属の薄膜化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

水素選択透過性を有する水素分離膜の製造方法であって、(a) 多孔質基材を形成する工程と、(b) 該多孔質基材の表面を水素分離金属で被覆して成膜する工程と、(c) 該工程(b)中に前記多孔質基材の細孔内に前記水素分離金属が浸入することを抑制する処理を、前記多孔質基材に施す工程とを備える水素分離膜の製造方法。

IPC (4件)：

B01D 71/02 500 , B01D 53/22 , B01D 69/12 , C01B 3/56

FI (4件)：

B01D 71/02 500 , B01D 53/22 , B01D 69/12 , C01B 3/56 Z

Fターム (13件)：

4D006GA41 , 4D006MA03 , 4D006MA09 , 4D006MB04 , 4D006MC02X , 4D006NA31 , 4D006NA62 , 4D006PA02 , 4D006PB66 , 4G040FA06 , 4G040FB09 , 4G040FC01 , 4G040FE01

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-105977
特開平1-131004
水素分離膜の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-064638 出願人：エヌオーケー株式会社

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