特許
J-GLOBAL ID：200903020463605595

洗浄方法及び洗浄装置

発明者：
水谷 淳二

水谷 淳二 について

, 
森山 優一

森山 優一 について


出願人/特許権者：
株式会社ササクラ

株式会社ササクラ について


代理人 (9件)： 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-164199
公開番号（公開出願番号）：特開2005-005326
出願日： 2003年06月09日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】オゾンを用いて有機皮膜を効果的に除去する方法を提供する。【解決手段】基材上の有機皮膜を洗浄液により除去する方法であって、(1)原料水としての純水ないしは超純水にオゾンガス及び炭酸ガスを溶解させることによって洗浄液を調製する第一工程、(2)洗浄液を45°C以上で基材上の有機皮膜と接触させることにより、当該有機皮膜を基材から除去する第二工程を有することを特徴とする洗浄方法に係る。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材上の有機皮膜を洗浄液により除去する方法であって、 (1)原料水としての純水ないしは超純水にオゾンガス及び炭酸ガスを溶解させることによって洗浄液を調製する第一工程、 (2)当該洗浄液を45°C以上で基材上の有機皮膜と接触させることにより、有機皮膜を基材から除去する第二工程 を有することを特徴とする洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  H01L21/027
FI (4件)：
H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648F ,  B08B3/08 Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (12件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB47 ,  3B201BB04 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB01 ,  3B201CD22 ,  5F046MA02 ,  5F046MA05
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 有機物除去方法
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-541728   出願人：エフエスアイインターナショナルインコーポレイテッド
  • ウエット処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-056110   出願人：日本電気株式会社

前のページに戻る

TOP

BOTTOM