特許

J-GLOBAL ID：200903020492670592

エキシマレ-ザ-用光学部材の製造方法

発明者： 藤ノ木 朗 ,  松谷 利勝 ,  西村 裕幸
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149535
公開番号（公開出願番号）：特開2000-095535
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【構成】 本発明は、ハロゲン化けい素類、アルコキシシラン類、アルキルアルコキシシラン類等から得た出発母材を600°C以上、1500°C以下の温度範囲で酸化熱処理し、水素濃度を5×1016分子/cm3以下に低減させると同時に前記した還元性欠陥を低減させる工程と、次に石英ガラスを水素含有雰囲気下で200°C以上600°C以下の温度範囲に保持して水素濃度を1×1017分子/cm3以上含有せしめる工程と、更にその石英ガラスを空気、不活性ガス、水素または水素と不活性ガスの混合ガスもしくは空気と不活性ガスの混合ガスの雰囲気中、300°C以上800°C以下の温度範囲で水素濃度均一化処理をする工程から石英ガラスを製造する事により、レーザー耐性が安定した優れた石英ガラス光学部材を得ることができる。

請求項（抜粋）：

揮発性珪素化合物を火炎加水分解し、生成するシリカ微粒子をそのまま回転する基体上に溶融・堆積して得られる合成石英を出発母材として耐紫外線エキシマレーザー用光学部材を製造する方法において、前記出発母材を600°C以上1500°C以下の温度範囲で酸化熱処理し、水素濃度を5×1016分子/cm3以下に低減させる第1工程と、第1工程で得られる石英ガラスを10atm以上の水素含有雰囲気下で200°C以上600°C以下の温度範囲に保持して水素を1×1017分子/cm3以上の濃度として含有せしめる第2工程と、第2工程で得られる石英ガラスを空気、不活性ガス、水素又は水素と不活性ガスの混合ガスもしくは空気と不活性ガスの混合ガス雰囲気中300°C以上800°C以下の温度範囲において、屈折率の均一性(Δn)が1×10-5以下とならしめるに十分な処理時間で水素濃度均一化処理を行う第3工程を含む事を特徴とする耐紫外線エキシマレーザー用光学部材の製造方法。

IPC (3件)：

C03B 20/00 ,  C03B 8/04 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C03B 20/00 K ,  C03B 8/04 P ,  H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-343510   出願人：信越石英株式会社