特許
J-GLOBAL ID：200903020534335497
投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-126335
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303123
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 レチクル面上のパターンを均一に照明し、ウエハ面上に高い解像力で容易に露光転写することができる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光源から放射した光束で照明系を介して被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する投影露光装置において、該照明系は複数の微小レンズを2次元的に所定のピッチで配列したオプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータの複数の微小レンズのうちの少なくとも1つに入射する光量を制限する光量調整部を有した光量制御手段と、該光量制御手段を光軸と直交する方向に又は光軸に対して所定角度の方向に駆動制御する為の駆動機構とを有し、これらの各要素を利用して被照射面上の照度分布を制御していること。
請求項（抜粋）：
光源から放射した光束で照明系を介して被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する投影露光装置において、該照明系は複数の微小レンズを2次元的に所定のピッチで配列したオプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータの複数の微小レンズのうちの少なくとも1つに入射する光量を制限する光量調整部を有した光量制御手段と、該光量制御手段を光軸と直交する方向に又は光軸に対して所定角度の方向に駆動制御する為の駆動機構とを有し、これらの各要素を利用して被照射面上の照度分布を制御していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22 H
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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