基板保持台、及びプラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮川貞二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-341916
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173988
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】フォーカスリングの表面のスパッタによる試料の金属汚染(アルミ汚染)をさらに低減することができ、試料の処理の均一化を実現することができる基板保持台、及びこの基板保持台を備えるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】高周波電力が印加され、被処理物である基板を載置する電極と;電極の周囲に、電極を包囲して配置される絶縁体のフォーカスリングと;電極に載置される基板の外側に配置され、基板と同程度または基板以上の導電性を有する材料で形成されるエッジリングと;エッジリングの外側に配置され、かつフォーカスリングの上方に空隙を介して配置されるカバー部品とを備え;カバー部品は、プラズマがフォーカスリングに照射されないように構成され、基板に対して汚染を発生させない材料で形成されていることを特徴とする基板保持台、及びこの基板保持台を備えるプラズマ処理装置とする。

請求項（抜粋）：

高周波電力が印加され、被処理物である基板を載置する電極と;前記電極の周囲に、前記電極を包囲して配置される絶縁体のフォーカスリングと;前記電極に載置される基板の外側に配置され、前記基板と同程度または前記基板以上の導電性を有する材料で形成されるエッジリングと;前記エッジリングの外側に配置され、かつ前記フォーカスリングの上方に空隙を介して配置されるカバー部品とを備え;前記カバー部品は、前記プラズマが前記フォーカスリングに照射されないように構成され、前記基板に対して汚染を発生させない材料で形成されていることを特徴とする基板保持台。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/44 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (4件)：

H01L 21/302 B , C23C 16/44 B , C23F 4/00 A , H05H 1/46 B

Fターム (24件)：

4K030CA04 , 4K030DA04 , 4K030FA01 , 4K030GA02 , 4K030KA14 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA32 , 4K030KA45 , 4K030KA46 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DM06 , 4K057DM18 , 4K057DM29 , 4K057DN01 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB23 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004DA23

引用特許：

審査官引用 (4件)

ドライエツチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-302578 出願人：日電アネルバ株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-047104 出願人：日本電気株式会社
プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-118299 出願人：三菱電機株式会社

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