特許
J-GLOBAL ID:200903020603316742

重合触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浜田 治雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-510784
公開番号(公開出願番号):特表2001-515930
出願日: 1998年09月02日
公開日(公表日): 2001年09月25日
要約:
【要約】【化1】(B)1-オレフィンの重合につき有用な触媒系を開示し、この触媒系は式(B)[式中、MはFe[II]、Fe[III]、Ru[II]、Ru[III]もしくはRu[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択される]に示した骨格体を含む窒素含有遷移金属化合物を含有する。
請求項(抜粋):
(1)下式Bを有する窒素含有遷移金属化合物と、(2)有機アルミニウム化合物およびヒドロカルビル硼素化合物から選択される活性化量の活性化剤化合物とからなる重合触媒:【化1】 式B[式中、M[T]はFe[II]、Fe[III]、Co[I]、Co[II]、Co[III]、Ru[II]、Ru[III]、Ru[IV]、Mn[I]、Mn[II]、Mn[III]もしくはMn[IV]であり;Xは遷移金属Mに共有もしくはイオン結合した原子もしくは基を示し;Tは遷移金属Mの酸化状態であると共にbは原子もしくは基Xの原子価であり;R1、R2、R3、R4およびR6は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;さらに(1):MがFe、CoもしくはRuであればR5およびR7は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R7の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することができ;または(2):MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は次のように基「P」により示されると共にR7は基「Q」により示され:【化2】ここでR19〜R28は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR19〜R28の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することができ、ただしR19、R20、R21およびR22の少なくとも1個は環系PおよびQがいずれもポリ芳香族融合環系の1部を形成しなければヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであり;または(3):MがFe、Co、MnもしくはRuであればR5は式-NR29R30を有する基であると共にR7は式-NR31R32を有する基であり、ここでR29〜R32は独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルから選択され;R1〜R4、R6およびR29〜R32の2個もしくはそれ以上がヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロヒドロカルビルもしくは置換ヘテロヒドロカルビルであれば前記2個もしくはそれ以上は結合して1個もしくはそれ以上の環式置換基を形成することができる]。
IPC (5件):
C08F 4/70 ,  C07D213/53 ,  C08F 10/00 ,  C07F 15/02 ,  C07F 15/06
FI (5件):
C08F 4/70 ,  C07D213/53 ,  C08F 10/00 ,  C07F 15/02 ,  C07F 15/06
Fターム (66件):
4C055AA01 ,  4C055BA03 ,  4C055BA06 ,  4C055BA27 ,  4C055BB01 ,  4C055BB04 ,  4C055CA01 ,  4C055DA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40 ,  4J028AA01A ,  4J028AB00A ,  4J028AC45A ,  4J028AC46A ,  4J028AC47A ,  4J028BA00A ,  4J028BA01B ,  4J028BB00A ,  4J028BB00B ,  4J028BB01B ,  4J028BC12B ,  4J028BC15B ,  4J028BC16B ,  4J028BC17B ,  4J028BC25B ,  4J028EA01 ,  4J028EB01 ,  4J028EB02 ,  4J028EB03 ,  4J028EB04 ,  4J028EB05 ,  4J028EB07 ,  4J028EB09 ,  4J028EB21 ,  4J028EB24 ,  4J028EB25 ,  4J028EC01 ,  4J028EC02 ,  4J028FA01 ,  4J028FA02 ,  4J028FA04 ,  4J028FA07 ,  4J028GB01 ,  4J100AA02P ,  4J100AA03P ,  4J100AA03Q ,  4J100AA04P ,  4J100AA04Q ,  4J100AA16P ,  4J100AA16Q ,  4J100AA17Q ,  4J100AA19Q ,  4J100AB02P ,  4J100AG04P ,  4J100AL03P ,  4J100AM02P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA02 ,  4J100FA10 ,  4J100FA19 ,  4J100FA22 ,  4J100FA28 ,  4J100FA29 ,  4J100FA47
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平2-078663
  • エチレンの重合
    公報種別:公表公報   出願番号:特願平10-528000   出願人:イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

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