特許

J-GLOBAL ID：200903020618246074

基板のエッチング装置および基板のエッチング方法

発明者： 坂本 武志
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-208590
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032609
出願日： 2004年07月15日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】 基板面内において、エッチング量の均一化を図ることのできる基板のエッチング装置を提供する。【解決手段】 エッチング槽1と、ガラス基板31を保持するカセット30と、エッチング槽1内に設けられカセット30を保持するカセットホルダ20と、カセット30を保持し上下に移動してカセット30を前記エッチング槽1から出し入れするアクチュエータ40とを備え、カセットホルダ20をモータ10によりエッチング槽1内で回転させ、カセット30をエッチング槽1に入れる姿勢に対して、カセット30の移動する移動軸に平行に略180°回転した姿勢で前記カセット30をエッチング槽1から取り出すように構成した。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

エッチング液を蓄えるエッチング槽と、 基板を保持するカセットと、 前記エッチング槽内に設けられ前記カセットを保持するカセットホルダと、 前記カセットホルダを前記エッチング槽内で回転させるカセットホルダ回転手段と、 前記カセットを保持し上下に移動して前記カセットを前記エッチング槽から出し入れするカセット移動手段と、を備える基板のエッチング装置であって、 前記カセット移動手段は、前記カセットを前記エッチング槽に入れる姿勢に対して、前記カセット移動手段の移動する移動軸に平行に略180°回転した姿勢で前記カセットを前記エッチング槽から取り出すことを特徴とする基板のエッチング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  C23F 1/08

FI (3件)：

H01L21/306 J ,  C23F1/08 102 ,  C23F1/08 104

Fターム (8件)：

4K057WA10 ,  4K057WA11 ,  4K057WM11 ,  4K057WM13 ,  4K057WN01 ,  5F043EE02 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35

引用特許：

出願人引用 (1件)

• エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-175520   出願人：昼田健吾, 金永生