エッチング装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-175520
公開番号（公開出願番号）：特開平8-041659
出願日： 1994年07月27日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】エッチング処理の均一化を大幅に向上せしめて高品質な製品を得ることのできるエッチング装置を提供する。【構成】エッチング液Eが貯留されたエッチング槽11の上において、複数の被処理物Wが装着される振動フレーム21をシリンダ32で昇降自在に支持し、被処理物Wを振動フレーム21ごとエッチング液Eに埋没させ、振動フレーム21に取り付けた振動モータ24で被処理物Wに振動を与えることによりエッチング処理がなされるよう構成した。

請求項（抜粋）：

エッチング液が貯留されたエッチング槽の上に備えられるエッチング装置であって、印刷原版等の被処理物が装着されるフレームと、該フレームを振動させる振動機構と、フレームにばね等の振動体を介して連結され被処理物をエッチング槽に対し入れたり出したりする昇降機構とを具備することを特徴とするエッチング装置。

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-194528
特開平2-258991
ワーク洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-172223 出願人：セイコーエプソン株式会社

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