特許

J-GLOBAL ID：200903020624541584

レーザ描画装置

発明者： 土屋 旭 ,  山口 剛
出願人/特許権者： 日立ビアメカニクス株式会社
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175670
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005188
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 装置の構成が簡単で、しかも描画速度および描画精度を向上させることができるレーザ直接描画装置を提供すること。【解決手段】 ベッド1に、軸心Oを中心とする回転自在の円テーブル20を設ける。また、レーザ照射ヘッド8をサドル21に載置して、円テーブル20の表面と平行で、光軸Lが軸心Oを通る直線上を移動可能に構成する。そして、Rを軸心Oからレーザ光の光軸Lまでの距離、Kを予め定める一定値とするとき、距離Rにおける円テーブル20の回転数NをN=K/Rになるように、円テーブル20の回転速度を制御する。そして、レーザ光の出力エネルギを一定にした状態で、光軸Lが配線パターンに対向する毎にレーザ光を出力して配線パターンを描画する。

請求項（抜粋）：

レーザ光を出力するレーザ照射ヘッドと、前記レーザ光と交差する方向に配置したプリント基板とを相対的に移動させ、前記レーザ照射ヘッドから出力されるレーザ光により前記プリント基板の表面に配線パターンを描画するレーザ描画装置において、回転の軸心と直角の面に前記プリント基板を保持する回転自在のテーブルと、前記レーザ照射ヘッドを直線方向に移動させる直線移動装置とを設け、前記レーザ照射ヘッドを前記面と平行に、かつ前記回転の軸心を中心とする円の弦方向に移動させることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 ,  H05K 3/00

FI (2件)：

G03F 7/20 505 ,  H05K 3/00 H

Fターム (4件)：

2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097CA17 ,  2H097LA09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-012150
  
• レーザ描画装置及びレーザ描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-101779   出願人：セイコーエプソン株式会社