特許
J-GLOBAL ID:200903020674893589
処理有機顔料、その用途及び顔料処理用化合物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
安富 康男
, 玉井 敬憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-180224
公開番号(公開出願番号):特開2004-083872
出願日: 2003年06月24日
公開日(公表日): 2004年03月18日
要約:
【課題】カラーフィルターやインクジェット記録等といった、有機顔料をより微細に分散させる必要がある分野に好適に使用でき、良好な分散安定性と流動性とを維持できる処理有機顔料、及び、高透過率でコントラスト等に優れたカラーフィルターを得ることができる顔料分散レジスト組成物を提供する。また、カルボジイミド基と反応する官能基を有する有機顔料の処理に適した処理用化合物を提供する。【解決手段】カルボジイミド基と反応する官能基を有する有機顔料を、カルボジイミド化合物(但し、分子内にポリエステル側鎖、ポリエーテル側鎖及びポリアクリル側鎖からなる群より選択される少なくとも1種の側鎖を有するものは除く)で処理してなる処理有機顔料。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
カルボジイミド基と反応する官能基を有する有機顔料を、カルボジイミド化合物(但し、分子内にポリエステル側鎖、ポリエーテル側鎖及びポリアクリル側鎖からなる群より選択される少なくとも1種の側鎖を有するものは除く)で処理してなる
ことを特徴とする処理有機顔料。
IPC (6件):
C09B69/10
, C08G18/79
, C09B67/20
, C09B67/46
, G02B5/20
, G02B5/22
FI (6件):
C09B69/10 B
, C08G18/79 Z
, C09B67/20 Z
, C09B67/46 B
, G02B5/20 101
, G02B5/22
Fターム (31件):
2H048BA02
, 2H048BA45
, 2H048BA47
, 2H048BA57
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 4J034BA07
, 4J034DA01
, 4J034DB04
, 4J034DB07
, 4J034DC50
, 4J034DF01
, 4J034DF16
, 4J034DF20
, 4J034HA01
, 4J034HA04
, 4J034HA07
, 4J034HB06
, 4J034HC02
, 4J034HC06
, 4J034HC12
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC52
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034RA07
引用特許: