特許

J-GLOBAL ID：200903020735814237

フォトレジスト組成物とその工業製品

発明者： 川辺 正直 ,  村田 昌英 ,  加瀬 俊男 ,  尾崎 裕之 ,  福井 祥文 ,  ホアン テ・バン ,  ジン ジジュ ,  宮沢 哲 ,  萩原 英昭 ,  土原 健治 ,  鈴木 靖三 ,  浅井 道彦
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  財団法人 化学技術戦略推進機構
代理人 (2件)： 藤本 英介 (外2名) ,  藤本 英介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-340354
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148803
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 高度のシンジオタクティシティを有するヒドロキシスチレン系重合体と感光性成分とからなる、耐熱性に優れ高感度のフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】 感光性成分、並びに、下記一般式(1)【化9】(式中、mは1〜3の整数である。)で表わされる構造単位を有する数平均分子量が600以上の重合体であり、かつそのタクティシティが13C-NMRによるラセミペンタッドで30%以上であるシンジオタクチック構造のヒドロキシスチレン系重合体を少なくとも含有してなることを特徴とするフォトレジスト組成物、及び該フォトレジスト組成物を塗付してなる工業製品。

請求項（抜粋）：

感光性成分、並びに、下記一般式(1)【化1】(式中、mは1〜3の整数である。)で表わされる構造単位を有する数平均分子量が600以上の重合体であり、かつそのタクティシティが13C-NMRによるラセミペンタッドで30%以上であるシンジオタクチック構造のヒドロキシスチレン系重合体を少なくとも含有してなることを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/033 ,  C08K 5/28 ,  C08K 5/34 ,  C08K 5/41 ,  C08L 25/18 ,  C09D125/18 ,  G03F 7/008 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/033 ,  C08K 5/28 ,  C08K 5/34 ,  C08K 5/41 ,  C08L 25/18 ,  C09D125/18 ,  G03F 7/008 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (34件)：

2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025BA06 ,  2H025CB17 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J002BC101 ,  4J002EQ036 ,  4J002EU046 ,  4J002EU136 ,  4J002EU146 ,  4J002EV226 ,  4J002FD090 ,  4J002GP03 ,  4J038CC091 ,  4J038JB00 ,  4J038JC12 ,  4J038KA03 ,  4J038KA12 ,  4J038LA03 ,  4J038MA08 ,  4J038MA09 ,  4J038MA14 ,  4J038NA14 ,  4J038NA18 ,  4J038NA21 ,  4J038PA17 ,  4J038PB11 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-096951
  
• スチレン系重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-122001   出願人：出光興産株式会社
• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-271562   出願人：キヤノン株式会社
• スチレン系重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-259206   出願人：経済産業省産業技術総合研究所長, 財団法人化学技術戦略推進機構

審査官引用 (4件)

• 特開平3-096951
  
• スチレン系重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-122001   出願人：出光興産株式会社
• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-271562   出願人：キヤノン株式会社
• スチレン系重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-259206   出願人：経済産業省産業技術総合研究所長, 財団法人化学技術戦略推進機構