特許
J-GLOBAL ID:200903020737039818

ビーム整形装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 東島 隆治 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-515476
公開番号(公開出願番号):特表平9-506715
出願日: 1994年11月30日
公開日(公表日): 1997年06月30日
要約:
【要約】ある方向におけるビーム特性値がMx2で、直交する方向におけるビーム特性値がMy2であるビーム(32-40)を発するレーザ装置のためのビーム整形装置(20)は、このビーム整形装置を通る複数の異なる伝搬経路を形成する複数の実質的に平行な反射面(22、24)を具備しており、各経路は前記反射面の間でそれぞれ異なる回数の反射を伴っており、その結果、使用時には、このビーム整形装置に入射する前記レーザ装置からの入力ビームの部分がそれぞれ異なる伝搬経路を進み、前記ビーム特性値Mx2およびMy2の一方が減少した出力ビームを形成するように再形成される。
請求項(抜粋):
1 レーザ装置のためのビーム整形装置であって、前記レーザ装置が、ある方向におけるビーム特性値がMx2で、それに直交する方向におけるビーム特性値がMy2であるビームを発するところのビーム整形装置において、 前記ビーム整形装置が、前記ビーム整形装置を通る複数の異なる伝搬経路を形成する複数の実質的に平行な反射面を具備し、各経路が前記反射面の間でそれぞれ異なる回数の反射を伴い、 それにより、使用のとき、前記ビーム整形装置に入射する前記レーザ装置からの入力ビームの部分が、それぞれ異なる伝搬経路を進み、前記ビーム特性値Mx2およびMy2の一方が減少した出力ビームを形成するように再形成されるところのビーム整形装置。2 前記伝搬経路が、前記ビーム整形装置のビーム入口においては横方向に配置されており、前記ビーム整形装置のビーム出口においては実質的に直交する方向に配置されていることを特徴とする請求項1記載のビーム整形装置。3 前記各反射面が、それぞれ別の基板上に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のビーム整形装置。4 共通の基板の反対側表面に形成された2枚の反射面を具備する請求項1又は請求項2に記載のビーム整形装置。5 前記反射面が実質的に平面であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のビーム整形装置。6 前記反射面がビーム入口およびビーム出口を形成するように相互に配置されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のビーム整形装置。7 Mx2がMy2より大きいことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のビーム整形装置。8 Mx2とMy2との積が前記出力ビームにおける(Mx2)'と(My2)'との積に実質的に等しいことを特徴とする請求項7記載のビーム整形装置。9 前記出力ビームにおける(Mx2)'と(My2)'とが実質的に等しいことを特徴とする請求項8記載のビーム整形装置。10 第1の方向における第1のビーム特性値がMx2であり直交する方向における第2のビーム特性値がMy2であるビームを発生するように動作可能なレーザ装置と、前記レーザ装置からのビームを受容するための請求項1乃至9のいずれかに記載のビーム整形装置と、を具備するレーザ光源。11 第1の方向における第1のビーム特性値がMx2であり第2の方向における第2のビーム特性値がMy2であるビームを発するレーザ装置と、前記第1および第2のビーム特性値Mx2およびMy2のうち少なくとも一方を再形成するように前記ビームの少なくとも一部の方向を転換するための少なくとも1枚の反射面を包含するビーム整形装置と、を具備するレーザ光源。12 前記レーザ装置が非回折限界ダイオードレーザであることを特徴とする請求項10又は請求項11に記載のレーザ光源。13 前記レーザ装置がダイオードバーであることを特徴とする請求項12記載のレーザ光源。14 前記レーザ装置がダイオードアレイであることを特徴とする請求項12記載のレーザ光源。15 前記レーザ装置が幅広ストライプダイオードレーザであることを特徴とする請求項12記載のレーザ光源。16 前記ビーム整形装置により形成された再形成ビームからスポットが実質的に円形の出力ビームを形成するための光学系を具備する請求項10乃至15のいずれかに記載のレーザ光源。17 請求項10乃至16のいずれかに記載のレーザ光源と、前記レーザ光源の出力を受容して印加ビームを供給するためのビーム供給システムと、を具備するレーザシステム。18 前記ビーム供給システムが、材料加工用ビームを供給するための材料加工ビーム供給システムであることを特徴とする請求項17記載のレーザシステム。19 前記ビーム供給システムが、医療用ビームを供給するための医療用ビーム供給システムであることを特徴とする請求項17記載のレーザシステム。20 前記ビーム供給システムがマルチモード光ファイバであることを特徴とする請求項17乃至19のいずれかに記載のレーザシステム。21 請求項10乃至16のいずれかに記載のレーザ光源と、印加ビームを供給するための固体レーザであって、前記レーザ光源の出力が前記固体レーザを励起するところの固体レーザと、を具備する、ダイオードにより励起される固体レーザシステム。22 前記レーザ光源の出力を前記固体レーザに供給するため前記レーザ光源に結合されたビーム供給システムであって、前記固体レーザがバルクレーザ、導波管レーザまたはファイバレーザであるところのビーム供給システムを具備する、請求項21記載の、ダイオードにより励起される固体レーザシステム。23 前記ビーム供給システムがマルチモード光ファイバであることを特徴とする、請求項21または請求項22に記載の、ダイオードにより励起される固体レーザシステム。24 レーザ装置のためのビーム整形装置であって、前記レーザ装置が、第1の方向における第1のビーム特性値Mx2と、直交する方向における第2のビーム特性値My2と、を有するビームを発するところのビーム整形装置において、前記第1および第2のビーム特性値Mx2およびMy2のうち少なくとも一方を再形成するために前記ビームの少なくとも一部の方向を転換する少なくとも1枚の反射面を包含するビーム整形装置。25 第2の反射面を具備しており、前記第1および第2の反射面が互いに実質的に平行であるところの請求項24記載のビーム整形装置。
引用特許:
審査官引用 (6件)
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