特許
J-GLOBAL ID：200903020759301583
薄膜形成方法及び薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-097425
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290769
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】 大面積でかつ均一な膜質の薄膜を安価に再現性良く製造することができる工業的方法を提供する。【解決手段】 原料溶液を超音波振動槽14で微粒子化した後、得られた微粒子をキャリアガスと共に微粒子吹き付けノズル17を介して加熱基板24上に吹き付けて薄膜を形成する方法において、分級装置15及び圧力緩衝器17により粒度分布と流れを整えた微粒子を、流量・流速・温度が分割された複数のゾーン毎に調整可能な微粒子吹き付けノズル17に供給する。これにより、再現性よく、均一な薄膜形成が可能になる。
請求項（抜粋）：
原料溶液を超音波振動槽で微粒子化した後、得られた微粒子をキャリアガスと共に微粒子吹き付けノズルを介して加熱基板上に吹き付けて薄膜を形成する方法において、前記微粒子吹き付けノズルとして、吹き出し経路及び排気経路がそれぞれ複数に分割されたノズルを用い、前記分割されたゾーン毎に前記微粒子の流量及び流速を制御することを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (4件)：
C23C 14/22
, B01J 19/00
, C03C 17/245
, H01L 21/3065
C23C 14/22 Z
, B01J 19/00 K
, C03C 17/245 Z
, H01L 21/302 B
4G059AC12
, 4G059EA02
, 4G059EB02
, 4G075AA24
, 4G075AA61
, 4G075AA63
, 4G075CA23
, 4G075EC02
, 4K029AA09
, 4K029BA47
, 4K029BC09
, 4K029BD00
, 4K029BD01
, 4K029DA04
, 4K029EA00
, 4K029EA04
出願人引用 (3件)
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化学気相蒸着装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-285051
出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド
-
特許第2641351号
-
特開平4-299532
審査官引用 (2件)
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化学気相蒸着装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-285051
出願人：エルジーセミコンカンパニーリミテッド
-
特許第2641351号
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