特許
J-GLOBAL ID：200903020763101807
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-034141
公開番号（公開出願番号）：特開2006-220905
出願日： 2005年02月10日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：
【課題】 被転写体へのパターン転写の転写精度を良好にできる露光用マスクを製造できるマスクブランク用ガラス基板の製造方法を提供すること。【解決手段】 合成石英ガラス板の対向する端面2、3を、露光波長の光(ArFエキシマレーザー)が導入できるように鏡面研磨した合成石英ガラス基板4を準備する準備工程と、鏡面研磨した一方の端面2からArFエキシマレーザーを入射して当該ガラス基板4が発する露光波長よりも長い波長の光15を受光し、この受光した光の波長と強度との関係を求め、最も強い強度に対応するピーク波長を検出する検出工程と、上記光のピーク波長が所定範囲にあるか否かを判定する判定工程とを有するものである。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
合成石英ガラス板の対向する表面を、露光波長の光が導入できるように鏡面研磨した合成石英ガラス基板を準備する準備工程と、
鏡面研磨した上記表面の一方から露光波長の光を入射して当該ガラス基板が発する露光波長よりも長い波長の光を受光し、この受光した光の波長と強度との関係を求め、最も強い強度に対応するピーク波長を検出する検出工程と、
上記ピーク波長が所定範囲内であるか否かを判定する判定工程と、を有することを特徴とするマスクブランク用ガラス基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB01
, 2H095BB32
, 2H095BC27
, 2H095BD02
, 2H095BD13
, 2H095BD15
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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