収束レーザビーム照射による感光性処理された基体の表面構造とこの表面構造を形成する方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202591
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083023
出願日： 1991年07月17日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】極めて正確な表面構造を形成することができ、しかも優れたアドレスグリッドを供給できるような、収束レーザビーム1照射による感光性処理された基体の表面構造とこの表面構造を形成する方法および装置を提供する。【構成】幾何学的パターンが、収束レーザビーム1によって、感光性処理された基体3上に形成される。その方法は、パターン因子を記すフォーマットと、基体上の感光性コーティングの露光に相関して、互いに同等の間隔で配列された平行な走査線2に沿う少なくとも1つの変調収束レーザビーム1により、走査線2に沿う同等の間隔の画素ポイントに露光するという方法である。走査線2の近接した画素ポイントの間隔は、近接する走査線2の間隔の、少なくとも4分されたうちの1因子分以上小さい。

請求項（抜粋）：

基本構造の位置および次元が、最小の基本構造の次元より実質上小さい段階で制御し得るような表面パターンを、基体上に形成させる方法であって、前記の最小基本構造は、パターンを記すフォーマットと、基体上に設けられた感光性層の露光に相関して、互いに同等の間隔で配列された平行な走査線に沿う少なくとも1つの変調収束レーザビームにより、走査線に沿う互いに同等の間隔を持つ画素に露光されるものであり、また、走査線の長さ方向の画素密度が、走査線に対して垂直方向の画素密度の、少なくとも4分されたうちの1因子分以上大きいとされるものであることを特徴とする収束レーザビーム照射によって感光性処理された基体へ表面構造を形成する方法。

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭61-284992
画像出力装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-353393 出願人：株式会社リコー
電子写真印刷装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-302549 出願人：ブル・エイチエヌ・インフォメーション・システムズ・イタリア・ソチエタ・ペル・アツィオーニ

審査官引用 (3件)

特開昭63-129620
特開平3-111866
特開昭61-284992

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