特許
J-GLOBAL ID：200903020784567067

走査プローブ顕微鏡を用いた測定方法

発明者：
馬場 修一

馬場 修一 について

, 
渡辺 正浩

渡辺 正浩 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (2件)： 作田 康夫 ,  井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-148545
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331306
出願日： 2004年05月19日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 形状もしくは物性等に特徴を有するパターンの解析において、二次元平面でのパターン形状や物性のばらつき、パターン形状と物性の関係、パターン配列精度等を定量的に把握することができる測定方法を提供する。【解決手段】 走査プローブ顕微鏡の取得画像から、パターンを形成する単位領域の検出を行い、各検出単位領域内における各種特性を算出し、測定領域内での各種特性のばらつき、各特性間の相関、測定領域内での各領域の二次元配列精度等を表示してパターンの特性が容易に把握できるようにする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
形状特性もしくは物理特性を有する領域が二次元平面に配列されたパターンの走査型プローブ顕微鏡を用いた測定において、試料の同一領域で一つ以上の特性画像を取得するステップと前記取得画像から前記領域を検出するステップと、前記検出された各領域における各種特性の値を算出するステップと、前記算出された各領域における各種特性値の二次元的ばらつきを表示するステップを有することを特徴とした走査型プローブ顕微鏡を用いた測定方法。
IPC (3件)：
G01N13/10 ,  G01B21/02 ,  G06T1/00
FI (5件)：
G01N13/10 E ,  G01N13/10 F ,  G01B21/02 A ,  G01B21/02 C ,  G06T1/00 295
Fターム (28件)：
2F069AA32 ,  2F069AA39 ,  2F069AA42 ,  2F069AA60 ,  2F069AA96 ,  2F069DD30 ,  2F069GG01 ,  2F069GG52 ,  2F069GG56 ,  2F069HH04 ,  2F069JJ05 ,  2F069LL03 ,  2F069NN08 ,  2F069NN13 ,  2F069NN26 ,  2F069QQ10 ,  5B057AA10 ,  5B057BA02 ,  5B057BA06 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC04 ,  5B057DC09 ,  5B057DC19 ,  5B057DC22 ,  5B057DC34
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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