特許

J-GLOBAL ID：200903020804988366

X線マスクの製造方法

発明者： 矢部 秀毅 ,  丸本 健二 ,  吉瀬 幸司 ,  綾 淳 ,  松井 安次 ,  佐々木 圭
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-166914
公開番号（公開出願番号）：特開2003-037058
出願日： 1995年02月23日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【課題】 X線マスクの吸収体パターンを精度良く作製することのできるX線マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 基板にX線吸収体を形成する工程、該X線吸収体の応力を所定の条件で制御する工程を備えたX線マスク27aの製造方法において、モニタ基板1上に形成したX線吸収体4の応力の計測値により基板1上に形成したX線吸収体4の応力を制御する条件を決定するものである。このようにすれば、工程中のX線マスクのX線吸収体4の正確な応力を知ることができ、その情報によりX線吸収体4の低応力化を図ることができるので、高精度のX線マスクを提供できる。

請求項（抜粋）：

基板上にX線吸収体を形成する工程、該X線吸収体の応力を所定の条件で制御する工程を備えたX線マスクの製造方法において、モニタ基板上に形成したX線吸収体の応力の計測値により、基板上に形成したX線吸収体の応力を制御する条件を決定することを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (8件)：

2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BB01 ,  2H095BC24 ,  5F046GA02 ,  5F046GD01 ,  5F046GD05 ,  5F046GD15

引用特許：

審査官引用 (1件)

• X線露光用マスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-065870   出願人：株式会社東芝