特許

J-GLOBAL ID：200903020829488244

ガス浄化装置及び方法

発明者： キース ハワード ベイリス ,  スティーヴン イーヴァー ホール ,  ディヴィッド レイボーン
出願人/特許権者： ユナイテッド キングドム アトミック エナヂイ オーソリティ
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-004525
公開番号（公開出願番号）：特開平6-241019
出願日： 1994年01月20日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：

【要約】【目的】フィルタ上に堆積した排気物質を除去する装置及び方法を提供する。【構成】内燃機関からの排気ガスから、粒状、或いはその他の物質を除去する方法において、排気ガスは帯電された強誘電性材料の集合体を通過する。この方法を実施するための3つの態様の装置が開示されている。

請求項（抜粋）：

ガス流路系の一部を構成するようになった反応室を備えたガス浄化装置であって、前記反応室が、使用時に浄化すべきガスを強制的に通過させる活性要素を含み、前記活性要素が、高誘電率を有する材料より形成したペレットのガス透過性集合体と、該活性要素内のペレットを帯電させる少なくとも一対の電極と、から成る、ことを特徴とするガス浄化装置。

IPC (4件)：

F01N 3/02 301 ,  F01N 3/02 ,  F01N 3/02 ZAB ,  F01N 3/08 ZAB

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-025264
  
• 電熱併給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-104280   出願人：株式会社日立製作所
• 特公昭52-048943