特許
J-GLOBAL ID：200903020860848011
製造プロセスの監視方法、監視プログラム及び監視システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-199165
公開番号（公開出願番号）：特開2009-037306
出願日： 2007年07月31日
公開日（公表日）： 2009年02月19日
要約：
【課題】予測精度が高く、異常の原因の特定を支援できる製造プロセスの監視方法、監視プログラム及び監視システムを提供する。【解決手段】製造プロセスの監視システム1には、製品を製造する製造装置2と、製造装置2の製造条件データに基づいて製品の出来映えを予測する重回帰モデルが記憶された監視装置4とが設けられている。監視装置4は、製造装置2から製造条件データを収集し、収集された製造条件データに対してウェーブレット変換を行って一組のウェーブレット係数を求め、この一組のウェーブレット係数のうち一部のウェーブレット係数を重回帰モデルに適用して製品の出来映えを予測する。そして、製品の出来映えが異常であると予測されたときに、この一部のウェーブレット係数について逆ウェーブレット変換を行い、その結果を端末コンピューター5に対して出力する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
製品の製造装置から製造条件データを収集する工程と、
前記収集された製造条件データに対してウェーブレット変換を行い、一組のウェーブレット係数を求める工程と、
前記一組のウェーブレット係数のうち一部のウェーブレット係数を重回帰モデルに適用して、前記製品の出来映えを予測する工程と、
前記製品の出来映えが異常であると予測されたときに、前記一組のウェーブレット係数について、前記一部のウェーブレット係数の値はそのままとし、残りのウェーブレット係数の値は0として逆ウェーブレット変換を行い、その結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする製造プロセスの監視方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G05B19/418 Z
, G06F17/60 108
3C100AA56
, 3C100BB11
, 3C100BB27
, 3C100CC02
, 3C100EE06
