特許
J-GLOBAL ID:200903020869855347

有機ELパネルの減光化方法および有機ELパネル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-078427
公開番号(公開出願番号):特開2003-272845
出願日: 2002年03月20日
公開日(公表日): 2003年09月26日
要約:
【要約】【課題】 輝点欠陥画素の減光化を効果的に行う。【解決手段】 画素の有機EL素子に対し、レーザを選択的に照射する。これによって、有機EL素子の有機層(正孔輸送層52、有機発光層54、電子輸送層56)の機能が劣化し、発光機能がなくなる。この手法では、陰極58の損傷などがない。
請求項(抜粋):
有機ELパネルの発光不良領域における有機層に選択的にレーザを照射してかかる領域を減光化することを特徴とする有機ELパネルの減光化方法。
IPC (2件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (2件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (5件):
3K007AB08 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00
引用特許:
審査官引用 (3件)

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