シロキサン化合物の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117573
公開番号（公開出願番号）：特開平10-292047
出願日： 1997年04月21日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】ジメチルハイドロジェンシロキシ基を有するシロキサン化合物を選択的に効率良く製造する方法を提供する。【解決手段】一般式:R1mSi(OR2)(4-m)(式中、R1は水素原子または置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、R2は水素原子またはアルキル基もしくはアルコキシアルキル基であり、mは0〜3の整数である。)で示されるシラン化合物もしくはその部分縮合物と1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンを、酸濃度が1.0重量%以下であり、かつ、上記のジシロキサンに対する水のモル比が0.5〜1.5である酸水溶液中で反応させることを特徴とする、一般式:R1mSi[OSi(CH3)2H](4-m)(式中、R1は水素原子または置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、mは0〜3の整数である。)で示されるシロキサン化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式:R1mSi(OR2)(4-m)(式中、R1は水素原子または置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、R2は水素原子またはアルキル基もしくはアルコキシアルキル基であり、mは0〜3の整数である。)で示されるシラン化合物もしくはその部分縮合物と1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンを、酸濃度が1.0重量%以下であり、かつ、上記のジシロキサンに対する水のモル比が0.5〜1.5である酸水溶液中で反応させることを特徴とする、一般式:R1mSi[OSi(CH3)2H](4-m)(式中、R1は水素原子または置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、mは0〜3の整数である。)で示されるシロキサン化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C08G 77/08 , C08G 77/12

FI (2件)：

C08G 77/08 , C08G 77/12

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開昭59-193896
特開昭63-305133
特開昭59-193896

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