特許

J-GLOBAL ID：200903020947935336

研磨液組成物

発明者： 平 幸治 ,  藤井 滋夫 ,  大島 良暁
出願人/特許権者： 花王株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-281115
公開番号（公開出願番号）：特開2000-109818
出願日： 1998年10月02日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】被研磨物に表面欠陥(スクラッチやピット等)を生じさせること無く研磨速度を向上させ、表面粗さを低減し得る研磨液組成物、被研磨基板の研磨方法、及び精密部品用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】炭素数1〜4のアルキルスルホン酸又はその塩と、研磨材と、水とを含有してなる研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する研磨方法、及び該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を有する精密部品用基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

炭素数1〜4のアルキルスルホン酸又はその塩と、研磨材と、水とを含有してなる研磨液組成物。

IPC (2件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (3件)：

C09K 3/14 550 Z ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 E

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 研磨用スラリー及びこの研磨用スラリーを用いる研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-241929   出願人：ソニー株式会社