特許

J-GLOBAL ID：200903020974965620

ドライエッチング装置

発明者： 武 石 浩 司
出願人/特許権者： 株式会社芝浦製作所
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-243063
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106303
出願日： 1993年09月29日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：

【要約】【目的】 静電吸着力が劣化しない静電チャック電極を備えたドライエッチング装置を提供する。【構成】 真空容器(1)に載置台(3)を取り付け、この載置台(3)の上に、被処理物を静電気力で吸着する静電チャック(4)を固定する。この静電チャック(3)は金属薄膜製の電極板(7)と、この電極板の両面に貼着された上部絶縁層(10)と下部絶縁層(11)とからなり、上記上部絶縁層(10)の表面にセラミック層(12)が形成される。

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器に取り付けられた載置台と、この載置台上に固定され、被処理物を静電気力で吸着する静電チャックとを有し、この静電チャックは金属薄膜製の電極板と、この電極板の両面に貼着された高分子有機材製の上部絶縁層と下部絶縁層とからなり、上記高分子有機材製の上部絶縁層の表面にセラミック層が形成されたことを特徴とするドライエッチング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-186653
  
• 特開平3-187240
  
• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-080416   出願人：東陶機器株式会社